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国家知识产权局信息数据显现，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司请求一项名为“一种气体流量控制阀、薄膜堆积设备及其控制办法”的专利，公开号CN121023484A，请求日期为2025年10月。专利摘要显现，本发明供给了一种气体流量控制阀、一种薄膜堆积设备及其控制办法，以及一种介质。该气体流量控制阀包含导热软管、外套管、限位组织和收紧组织。该导热软管连通上游管路及下流管路。该外套管由导热资料制造成，套设在该导热软管的外围，并支撑绕所述导热软管的轴向旋转。该限位组织坐落该导热软管与该外套管之间，并沿该导热软管的周向延伸。该收紧组织的第一端固定衔接该外套管，第二端在该限位组织的约束下环绕该导热软管至少一圈，再固定衔接所述导热软管，以随该外套管的轴向旋转而定量地增大或减小所述导热软管的通流面积。
天眼查资料显现，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，坐落沈阳市，是一家以从事研讨和实验开展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。经过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参加招投标项目18次，产业线条，此外企业还具有行政许可15个。
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